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三星原先在2025年开始大规模生产基于GAA的2nm芯片

发布时间:2025-11-15

IT之家6月20日最新消息,据BusinessKorea报道,惠普电子恰巧开发计划通过在预见三年内充分运用3薄膜GAA(Gate-all-around)瓷来逃走世界第一大大厂母公司——MOS。

据悉,GAA是下一代瓷应用,改进了电子元件二极体的在结构上,使栅极可以受伤害到二极体的所有四面,而不是目前FinFET瓷的三面,GAA在结构上可以比FinFET瓷更为粗略地控制电流。

根据TrendForce的数据,在2021年月份,MOS占多数全球大厂美国市场的52.1%,能比多达惠普电子的18.3%。

惠普电子恰巧押注于将GAA应用用于3薄膜瓷,以逃走MOS。据报道,这家中韩电子元件跨国企业在6下旬将3薄膜GAA瓷的晶圆用于试投入生产,带进全球第一家用于GAA应用的母公司。惠普希望通过应用上的新发展,快速缩小与MOS的差距。3薄膜瓷将电子元件的性能和电容器成本分别提高了15%和30%,同时与5薄膜瓷比起,中央处理器面积减少了35%。

备受瞩目本年下旬将GAA应用用于其3薄膜瓷后,惠普开发计划在2023年将其扩展第二代3薄膜中央处理器,并在2025年大规模投入生产基于GAA的2薄膜中央处理器。MOS的战略性是在本年月份用于稳固的FinFET瓷转入3薄膜电子元件美国市场,而惠普电子则押注于GAA应用。

技术人员指,如果惠普在基于GAA的3薄膜瓷中情况下了稳固的开采量,它就能带进大厂美国市场的的游戏扭转者。MOS预计将从2薄膜中央处理器开始扩展GAA瓷,并在2026年左右发布第一个厂家。对于惠普电子来说,预见三年将是一个关键时期。

除此以外,惠普年初,在预见五年内,将在电子元件等关键从业人员投资共450万亿韩元(近2.34万亿元人民币)。然而,惠普在3薄膜瓷不足之处碰到了身心。与惠普一样,MOS在提高3薄膜瓷的开采量不足之处也有不便。

IT之家了解到,MOS原来开发计划从7月开始用3薄膜应用为惠普和苹果大规模投入生产电子元件,但在确保理想的开采量不足之处碰到了不便。DigiTimes报道指,MOS在确保3薄膜瓷的理想开采量不足之处碰到了不便,因此多次修改其应用路线图。

惠普电子也陷入着类似的情况,3薄膜瓷的试投入生产用晶圆已经投入用于,但由于开采量低的情况,该母公司一直在推迟年初恰巧式的大规模投入生产。传统意义汽车证券美国市场的科学研究负责管理RohKeun-chang说:“除非惠普电子为其7-nm或更为现代化的瓷确保必要的客户,否则有可能加剧金融美国市场对惠普电子预见业绩的焦虑。”

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